本技术属于UV固化技术领域，公开了一种闪烁体面板UV固化系统及装置。所述系统包括多个发光源组以及依次串联的光源控制开关、时间控制单元、功率控制单元、电源开关、电源；每个发光源组由不同光源控制开关进行分别控制；所述多个发光源组呈内外环绕设...

本发明涉及粉末冶金领域，具体是一种泡沫镍的制备方法，包括以下步骤：将镍单质、氧化锌和马铃薯淀粉混合，依次进行冷压、低温热压和烧结；所述低温热压的压力为80~100 MPa，温度为150~200℃，时间为3~5 h；将得到的产物在碱液中浸...

本发明涉及粉末冶金领域，具体是一种泡沫铁的制备方法。本发明使用硫酸镁作为造孔剂，通过硫酸镁熔点为1124℃，与水溶解性好等特点，将铁粉与硫酸镁粉混合均匀，再通过冷压、热压和烧结的方法制成烧结胚，然后将硫酸镁溶解而会形成孔径大小均匀，孔隙...

提供一种蓝宝石晶片退火前清洗方法，所述蓝宝石晶片退火前清洗方法至少适用于8英寸的蓝宝石晶片表面碳化硼研磨后且在退火前的清洗，所述蓝宝石晶片退火前清洗方法包括步骤：S1，采用碱性金属清洗剂配制成的水溶液超声清洗；S2，采用去离子水超声清洗...

本实用新型涉及半导体材料制造技术领域，公开了一种用于晶片的削膜装置，包括能够自转的定位机构和设置于所述定位机构一侧的削膜机构，所述定位机构用于定位晶片，当所述定位机构自转时，所述削膜机构能够对所述定位机构上的所述晶片的边缘进行削膜。本实...

本实用新型涉及半导体材料制造技术领域，公开了一种贴膜设备，其包括贴膜机构和切膜机构，贴膜机构包括传送带和压膜板，切膜机构包括切膜刀、切割板和外壳，切膜刀包括第一刀片和第二刀片，第一刀片和第二刀片相互交叉形成多个十字形切割结构，切割板设于...

本实用新型涉及半导体材料制造技术领域，公开了一种切膜工具，其包括切膜刀、切割板和外壳，切膜刀包括若干个沿X轴设置的第一刀片以及若干个沿Y轴设置的第二刀片，第一刀片和第二刀片相互交叉形成多个十字形切割结构，切割板设于切膜刀的顶部并与其固定...

本实用新型涉及半导体晶片清洗技术领域，公开了一种用于晶片的清洗装置，包括用于盛装清洗药液的清洗容器和设置在所述清洗容器外部的多条加热带，多条所述加热带由上至下间隔设置于所述清洗容器的外壁上，每条所述加热带均环绕所述清洗容器设置。本实用新...

本实用新型涉及工业生产技术领域，公开了一种取料量杯，其包括量杯本体和底座，量杯本体的底部设有凹槽，底座上设有与凹槽相匹配的限位凸起，量杯本体的外侧壁设有刻度线，量杯本体上套设有平行于刻度线的标识环，标识环可沿量杯本体的外侧壁上下滑动，标...

本实用新型提供一种砷化镓单晶生长装置，砷化镓单晶生长装置包括石英帽、石英管和氮化硼坩埚；在xyz的三维空间直角坐标系中，所述氮化硼坩埚置于所述石英管内部并且所述石英帽与所述石英管密封连接后，所述石英帽壁的内表面的空间位置符合函数关系f1...

本实用新型揭示了一种半导体晶棒定位装置，包括底座和可拆卸式设置在底座上的定位片，底座的底面为平面，底座的顶面设有矩形开槽，矩形开槽朝底面凹陷形成用于供晶棒插入的柱面槽，柱面槽的延伸方向与底面平行；定位片的宽度小于矩形开槽的宽度，定位片能...

本公开提供一种晶片清洗装置，晶片清洗装置包括：清洗盘，其上表面设置有限位柱，用于固定晶片；喷淋装置，分别设置于清洗盘的上方和下方；清洗盘为圆盘结构，清洗盘包括上表面和上表面，上表面外圆的直径与下表面外圆的直径相等，上表面内圆的直径小于下...

本实用新型涉及半导体材料加工技术领域，公开了一种焊接装置，其包括底座、焊枪及供气组件，底座用于固定待焊接零件；焊枪设置于所述底座上，所述焊枪包括焊接环及设置在所述焊接环的内侧的若干焊枪嘴，若干所述焊枪嘴均与所述焊接环相连通，若干所述焊枪...

本实用新型揭示了一种半导体晶棒切割卡具，包括第一卡套和第二卡套，第一卡套和第二卡套分别设有供晶棒插入的第一收容腔和第二收容腔，第一卡套和第二卡套之间通过卡套连接件固定连接，第一卡套远离第二卡套的一侧设有止挡板，止挡板远离第一卡套的一侧设...

本实用新型涉及晶片清洗辅助装置技术领域，公开了一种清洗夹具，清洗夹具包括夹具本体，所述夹具本体上相对设置有两个定位块，两个所述定位块之间限定有用于夹持晶片的安装位，两个所述定位块相对的一侧上均设有定位槽，两个所述定位槽用于分别夹持所述晶...

本实用新型涉及晶圆技术领域，公开了一种用于清洗晶圆的夹紧装置，包括：第一环体；第二环体，其套设在第一环体的外部；驱动机构，其用于驱动第二环体沿第二环体的轴向方向上移动；及多个支杆，支杆穿设于第一环体，且支杆的第一端与第二环体固定连接，支...

本实用新型涉及液体回收技术领域，公开了一种液体回收装置，包括：清洗盘，所述清洗盘用于夹紧晶圆，所述清洗盘的侧壁设有通孔；转动机构，所述转动机构用于驱动所述清洗盘转动；供液组件，所述供液组件用于向所述清洗盘喷入液体；第一收液盘，所述第一收...

本公开提供了一种卡具以及清洗装置。卡具包括主体部，主体部设有卡槽和固定孔，固定孔沿上下方向贯通，固定孔用于固定测温组件，卡槽由主体部的下表面向上凹入，卡槽用于卡设在容器的开口端以将测温组件相对容器进行固定。在根据本公开的清洗装置中，卡具...

本公开提供了一种固定装置及退火炉。固定装置用于对炉子上的温度控制装置的控温热电偶进行固定，固定装置包括支撑板和连接组件，支撑板固定在炉子的外侧，连接组件的一端固定连接于支撑板的远离炉子的一侧，另一端用于固定控温热电偶，其中，连接组件能够...

本公开提供了一种旋转装置和气相沉积炉，旋转装置包括旋转轴、开设有第一连接孔和第三连接孔的上盖板、开设有第二连接孔的下盖板、开设有第四连接孔的第一齿轮、第二齿轮和连接杆。旋转轴穿过上盖板、第一齿轮和下盖板并与下盖板连接，第一齿轮位于上盖板...