本发明提供了一种加热盘、加热盘的加工方法及一种工艺腔室。所述加热盘包括：加热盘本体，用于对其上承载的晶圆进行加热；以及氧化铝膜层，设于所述加热盘本体之上，其上表面具有至少一个凹陷的图案区，用于在薄膜沉积工艺过程中对所述晶圆背面散热，并经...

本发明公开了抽气环件、工艺腔体、薄膜沉积设备及抽气环件安装方法。抽气环件安装于工艺腔体的腔室中；抽气环件包括抽气衬套和抽气环；抽气衬套安装于腔室中，抽气衬套上开设有环形搭接槽；抽气环搭接于环形搭接槽中，抽气环与抽气衬套之间形成腔室与外部...

本发明公开了一种喷淋组件，喷淋腔，以及半导体器件的工艺设备。喷淋组件包括第一分气部，位于喷淋盘上，以使从上方进气端通入的活性气体经由所述第一分气部，向外周进行一次扩散；第二导气部，位于喷淋盘上且分布于所述第一分气部的四周，承接经过所述一...

本发明提供了分体式晶圆支撑机构、工艺腔室、加工方法及存储介质。分体式晶圆支撑机构包括多个第一环体、多个第二环体及第一升降机构。多个第一环体经由多根第一支杆设于工艺腔室内部，用于支撑晶圆边缘的多个第一位置。多根第一支杆位于晶圆下方的喷淋头...

本发明提供了一种半导体器件的加工方法、设备及存储介质。所述半导体器件的加工方法包括以下步骤：在原子层沉积循环工艺中，获取原子层沉积阀的实时状态参数，其中，所述状态参数选自所述原子层沉积阀切换状态的累计动作次数和/或实际响应时间；根据所述...

本发明提供了一种气体加热装置、气体传输系统及方法，以及半导体器件的加工设备。所述气体加热装置包括：外管，用于为待加热气体提供封闭的传输通道；内管，设于所述外管的内侧，其上设有至少一个沿气体流动方向延伸且大小可调的开口；以及加热结构，设于...

本发明公开了一种喷淋头结构、半导体器件的加工设备及加工方法。该喷淋头结构其前端连接等离子体源，后端连接反应腔，所述喷淋头结构包括：石英喷淋盘，用于将从所述等离子体源中获取到的具有还原性的原子喷淋到所述反应腔内，以还原所述反应腔内晶圆表面...

本发明公开了一种波纹管检漏装置及其使用方法、薄膜沉积设备，该波纹管检漏装置包括：上固定板、下固定板、连接组件和抽气管，所述上固定板与所述下固定板上下间隔设置，所述上固定板和所述下固定板通过所述连接组件可拆卸连接固定，所述抽气管设于所述上...

本发明公开了一种抽气机构，半导体器件的加工设备及加工方法。抽气机构包括：抽气基管，在位于反应腔侧壁的第一抽气口和位于所述反应腔底部的第二抽气口之间移动，其中，所述抽气基管的第一端连接抽气装置，其第二端设有至少一个第三抽气口，通过移动所述...

本发明公开了一种抽气机构、半导体器件的工艺设备和加工方法。抽气机构包括：侧抽环，位于反应腔内，环绕加热盘，并经由第一抽气通道连接抽气装置，其中，所述第一抽气通道中设有第一阀门；以及底抽环，位于所述反应腔内的所述加热盘的下方，并经由第二抽...

本发明公开了一种温度控制系统、方法及原子层沉积设备，该温度控制系统应用于原子层沉积设备，所述原子层沉积设备包括反应腔，所述温度控制系统包括：加热部，设置于反应腔的一侧；冷却部，设置于加热部远离所述反应腔的一侧，其中，所述加热部和冷却部中...

本发明公开了一种化学源储存装置及薄膜沉积系统。化学源储存装置用于向薄膜沉积系统的反应腔提供化学源；化学源储存装置包括储存容器、雾化基座、载气组件和输出组件。储存容器用于储存液态的化学源；雾化基座设置于储存容器内且高于化学源的液位高度；载...

本发明提供了一种边缘环组件、一种工艺腔室及一种半导体器件的加工设备。所述边缘环组件包括第一边缘环。所述第一边缘环放置于抽气环的边缘之上，并位于加热盘及喷淋盘之间，用于缩小所述加热盘与所述喷淋盘之间等离子体的边缘空间，和/或减小所述边缘空...

本技术公开了一种用于半导体设备中的热电偶结构和半导体设备。热电偶结构包括：热电偶本体，用以测量温度；多段金属护套管，分段地套接在热电偶本体的外部，用以屏蔽所述半导体设备的外部电磁能量，其中，至少一段金属护套管上包括接地端子，用以将所述电...

本发明提供了一种视觉引导下的加热盘位置调节方法，包括：在加热盘的周边提供至少三个相机，其中所述至少三个相机相对于腔体的位置固定；根据所述至少三个相机的分布位置，在所述加热盘的外缘侧面提供至少三个加热盘标识，每个所述加热盘标识与一个所述相...

本发明公开了一种喷淋板测温平台，该喷淋板测温平台包括：平台、上盖板、喷淋板、加热元件和多个测温元件，上盖板，盖合在所述平台上，所述上盖板与所述平台之间形成有空腔；喷淋板，设于所述空腔中并安装于所述上盖板，所述喷淋板的上表面布置有多个位置...

本发明公开了一种管接头的防松装置，及其装配方法，以及管接头的维护方法。管接头的防松装置包括：第一卡扣，通过第一螺钉组件，以使第一卡扣可移动地固定在第一管道上，其中，第一卡扣的第一端钳住第一管道的管接头以固定第一管道的管接头；以及第二卡扣...

本发明公开了一种晶圆支撑装置及其异常检测方法、薄膜沉积设备，该晶圆支撑装置包括：加重件，其上设有至少三个安装孔；至少三个支撑件，所述支撑件的数量与所述安装孔的数量相匹配，所述支撑件的底端可拆卸地固设于所述安装孔，所述支撑件的顶端用于支撑...

本发明提供了一种喷淋装置以及处理腔室。该喷淋装置包括：喷淋盘；感应线圈槽，被配置成容纳一个或多个感应线圈；液态金属槽，被配置成容纳液态金属；其中，所述感应线圈槽和所述液态金属槽内置于所述喷淋盘的圆周边缘部。

本技术提供了一种多反应源传输系统及薄膜沉积设备。所述多反应源传输系统包括：多个反应源传输模块，其中，每一所述反应源传输模块中包括至少一个载气源及至少一个液态源，第一反应源传输模块中的第一载气源提供的第一载气流经对应的第一液态源，以携带其...