本发明提出一种应用于真空溅射镀膜的清洁辅助装置，包括工艺镀膜腔体，工艺镀膜腔体的一侧设有过渡腔体，工艺镀膜腔体的相邻过渡腔体一侧还设有晶圆或者遮板进出口，工艺镀膜腔体的底部设有工作气体输入通道，过渡腔体与工艺镀膜腔体连通，工艺镀膜腔体内...

本发明公开了一种近距离双电子束蒸发源结构，包括：机壳、蒸发坩埚、磁场导流组件、承托导磁组件。机壳内固定装配有一对蒸发坩埚。磁场导流组件包括多组第一导磁板和第二导磁板，多组第一导磁板与第二导磁板交错分布，多组第一导磁板与第二导磁板之间均布...

本发明公开了一种多规格适配的蒸镀机坩埚气密性检漏机构，包括检漏装置；还包括：所述检漏装置内部检漏腔体的后方与左右两侧均等距离贯通连接于检漏连接管的外端；其中，检漏装置内部的检漏腔体中设置有定位机构，且定位机构包含有定位平台；其中，检漏装...

本发明公开了一种双腔室蒸镀镀锅同步传动结构，包括：齿轮防着板、一对镀锅组件、单轴双齿轮驱动组件。镀锅组件包括镀锅，镀锅的外侧卡合装配有多组均匀分布的盖板，镀锅的外侧铰接有多组均匀分布的压条。单轴双齿轮驱动组件包括支架固定板，支架固定板固...

本发明公开了一种多工件同步检测式球形检漏治具，包括承载底座；所述承载底座的顶面中心位置处固定连接于支撑立柱的底端；还包括：所述承载底座的上方设置有检漏机构，且检漏机构包含有检漏球体，并且检漏球体的内部开设有检漏腔体；其中，支撑立柱的顶端...

本发明涉及PVD镀膜技术领域，具体为一种上腔体自冷却的PVD镀膜设备，包括镀膜主腔体，以及开设在镀膜主腔体右侧面内的进料口；镀膜主腔体的上方设置有上腔体组件，上腔体组件的上方安装有连接板；所述镀膜主腔体的的左侧安装有支撑架，所述储水腔的...

本发明公开了一种具有加热脱气功能的晶圆加工用工艺腔，包括真空箱体，以及开设于真空箱体内部的加热腔体；还包括：所述真空箱体内部加热腔体的左侧设置有驱动机构；所述真空箱体内部加热腔体的右侧设置有托举机构；其中，真空箱体的顶面固定设置有加热机...

本发明涉及镀锅更换辅助技术领域，具体为一种蒸镀机用镀锅更换辅助机构，包括工艺腔，所述工艺腔的上表面内部安装有安装盘；所述工艺腔左右两侧均安装有将空间隔断的闸板阀；镀锅本体的上方安装有连接法兰本体；所述放置托板的后侧上方安装有齿条本体，齿...

本发明涉及坩埚旋转和移动技术领域，具体为一种防偏差的坩埚旋转和移动机构，包括下沉腔腔体，以及安装在下沉腔腔体前侧面的开合门，所述下沉腔腔体的后侧面通过连接法兰组件与支撑架相连接，下沉腔腔体的底面内部安装有滑轨机构，滑轨机构的上方滑动连接...

本发明属于蒸镀机技术领域，具体涉及整机，包括机架、真空室、转运机构和真空泵；机架上铰链连接有一对取料门；真空室安装于机架内，真空室包括第一外壳，第一外壳上铰链连接有密封门，密封门与其中一个取料门相对应，第一外壳上安装有主泵、检测机构和水...

本发明公开了一种IBE离子束刻蚀装置，包括：真空室，所述真空室上方安装真空泵组件，真空室后壁安装离子束发生装置，真空室左侧安装旋转驱动结构，真空室内部转动设置刻蚀载台，旋转驱动结构驱动连接刻蚀载台，真空室右侧壁开设晶圆进料口，刻蚀载台包...

本发明涉及蒸镀用坩埚技术领域，具体为一种蒸镀用自定位式坩埚，包括旋转坩埚本体，以及安装在旋转坩埚本体上方的下冷却板；所述旋转坩埚本体的下方安装有副旋转控制杆，所述上冷却板的左右两侧均安装有侧支撑板，侧支撑板的内部贯穿安装有定位组件；所述...

本发明涉及坩埚穴位旋转和整体位移技术领域，具体为一种下沉腔坩埚穴位旋转和整体位移机构，包括下沉腔本体，以及安装在下沉腔本体下方的底座板；所述下沉腔本体的左侧贯穿安装有气动伸缩位移机构，气动伸缩位移机构的右端与滑动板的左侧面相连接。该下沉...

本发明公开了一种真空蒸镀机用可调式膜层厚度修正结构，属于真空蒸镀机技术领域，本发明包括修正板，所述修正板的外端固定连接有传动杆，且传动杆的上端通过轴承安装在衔接柱上，所述修正板位于真空蒸镀机本体内部蒸发坩埚和镀锅之间；还包括：所述修正板...

本发明涉及真空镀膜机技术领域，具体为一种材料均匀散发的真空镀膜机，包括底座，以及安装在底座右侧的电控柜；所述镀膜腔体的前侧面设置有开合门组件，开合门组件的内侧安装有离子源；所述镀膜腔体的顶端内部设置有镀锅；所述镀膜腔体的内壁安装有防着板...

本发明涉及真空电子束预熔技术领域，具体为一种可提高连续预熔效率的真空电子束预熔设备，包括外壳体，所述真空预熔腔体的左右两侧面内壁均安装有防着板，防着板的侧面安装有加热灯；所述上冷却板的下方设置有坩埚本体，坩埚本体的下方设置有下冷却板，所...

本发明公开了一种真空蒸镀机自翻面式镀锅结构，属于真空蒸镀机技术领域，本发明包括镀锅本体，所述镀锅本体的中部固定连接有中心杆，且镀锅本体上安装有承载架，并且承载架的中部内侧固定连接有基片本体；还包括：所述中心杆上固定连接有限位盘，且限位盘...

本申请提供一种真空镀膜设备的下沉腔体抽拉设备，包括主腔体和下沉腔体，主腔体和下沉腔体相互配合，蒸发的气体依次经过主腔体和下沉腔体，以接力的方式呈球面状向外扩散，来满足扩散尺寸的要求，使得所需真空腔体尺寸规格有效减小，设备内部容积大幅度降...

本申请提供一种真空镀膜设备的坩埚旋转机构，包括：真空镀膜设备的内腔的底板，所述内腔的底板处设有蒸发源结构，所述蒸发源结构包括坩埚盖板和坩埚本体，坩埚驱动杆与第一轴套可拆卸连接，坩埚转动杆与第二轴套可拆卸连接，当第一轴套、第二轴套损坏时，...

本发明公开了一种双源共蒸发真空蒸镀机，属于真空蒸镀机技术领域，本发明包括机壳，所述机壳的内部下端安装有容纳左右两个坩埚主体的固定座，还包括：固定座的上端中部安装有挡板，两个坩埚主体的中间位置固定连接有隔磁板，隔磁板位于固定座的内部；左右...