本发明公开一种具有自组装微结构图形压印母模的制备方法，包括：利用自组装工艺在基材上形成自组装微结构图形；利用具有自组装微结构图形的基材作为母模，制备第一子模；在硅基片表面涂胶，将第一子模上的反结构图形通过压印工艺压到硅基片的掩膜上；对压...

本技术公开一种旋涂匀胶治具及包括该治具的半导体旋涂均胶设备，包括：圆盘状的治具本体，且在治具本体的旋涂面上设有用于承载异形片的凹槽。本技术在传统的旋涂匀胶治具的基础上进行改进，在治具本体上开设用于承载异形片的凹槽，结构简单，成本低。本技...

本技术公开一种清洗机槽体内的鼓泡装置。鼓泡装置包括：鼓泡板以及若干鼓泡管道，在鼓泡板上分布有多个贯穿其正反面的孔洞，鼓泡管道安装于鼓泡板的反面，且其相对两对分别与鼓气管道连通，鼓泡管道上分布有多个鼓泡孔，且同一鼓泡管道上的多个鼓泡孔沿其...

本技术公开一种清洗机内药液密度检测装置，包括：检测槽体，检测槽体与药液槽连通；检测组件，检测组件包括：垂直设置于检测槽体内的导向柱以及由上至下依次套设于导向柱上的第一浮动环和第二浮动环，第一浮动环和第二浮动环能够在药液浮力的作用下沿着导...

本技术公开一种纳米压印用柔性模板的张力调整装置，张力调整装置包括：用于承载柔性模板的下承载环以及能够垂直运动的上压环；上压环上设有顶撑部，其与下承载环相互配合，用于调整柔性模板的张力。本技术能够解决现有纳米压印时柔性模板的搬运时位移、形...

本技术公开一种软膜晶圆压印装置，包括：晶圆置放台、框架以及辊轮压印组件，晶圆置放台用于放置晶圆；框架置放台为中间镂空的环形结构，其用于承载软膜框架，软膜框架内承载有软膜，框架置放台的相对两端分别与两组台体升降组件传动连接，两组台体升降组...

本技术公开一种软膜框架定位升降装置，包括：框架置放台、框架升降组件以及台体升降组件，框架置放台为中间镂空的环形结构，其用于承载软膜框架，软膜框架内承载有软膜；框架升降组件安装于框架置放台上，用于承接软膜框架，且带动软膜框架置于框架置放台...

本发明公开一种基于干法刻蚀的硅基板高深宽比的图形结构生成方法，包括：在硅基板上形成图形掩膜；利用氧氟类气体体系高选择比硅基刻蚀方法对步骤S1得到的硅基板进行掩膜刻蚀，得到高深宽比的图形结构；利用氟碳类气体体系低选择比硅基刻蚀方法对步骤S...

本发明公开一种针对压印图形的周期性结构变化的纳米压印方法，包括：制备具有产品设计图形的纳米压印模板；利用具有热塑性膨胀趋势的材料，在纳米压印模板的基础上，制备具有反向设计图形的软性子膜板；对制备好的软性子膜板施压控制其进行膨胀，使软性子...

本发明公开一种清洗机槽体内的鼓泡装置。鼓泡装置包括：鼓泡板以及若干鼓泡管道，在鼓泡板上分布有多个贯穿其正反面的孔洞，鼓泡管道安装于鼓泡板的反面，且其相对两对分别与鼓气管道连通，鼓泡管道上分布有多个鼓泡孔，且同一鼓泡管道上的多个鼓泡孔沿其...

本发明公开一种纳米压印设备及方法，包括：框架置放台、台体升降组件、框架升降组件、晶圆置放台、辊轮压印组件以及视觉检测组件，框架置放台用于承载软膜框架，软膜框架内承载有软膜；台体升降组件与框架置放台传动连接，用于带动框架置放台升降及倾斜，...

本发明公开一种清洗机内药液密度检测装置及方法，包括：检测槽体，检测槽体与药液槽连通；检测组件，检测组件包括：垂直设置于检测槽体内的导向柱以及由上至下依次套设于导向柱上的第一浮动环和第二浮动环，第一浮动环和第二浮动环能够在药液浮力的作用下...

本发明公开一种纳米压印用柔性模板的张力调整装置及方法，张力调整装置包括：用于承载柔性模板的下承载环以及能够垂直运动的上压环；上压环上设有顶撑部，其与下承载环相互配合，用于调整柔性模板的张力

本发明公开一种用于改善材质表面触感的微结构图形制备方法及产品,微结构图形制备方法包括以下步骤：S1：清洗基板；S2：在基板的表面涂覆一层光刻胶掩膜层；S3：对基板进行纳米压印，在基板的表面形成微纳米压印掩膜图形；S4：将带有光刻胶微纳米...

本发明公开一种基于干法刻蚀工艺的纳米压印模板制备方法，具体包括以下步骤：步骤一：清洗基板；步骤二：制备图形掩膜；步骤三：利用干法刻蚀工艺方法，根据期望的纳米压印模板结构，对基板进行刻蚀，期望的纳米压印模板的表面具有多个微结构单元，且每个...

本发明公开一种基于干法刻蚀工艺的纳米压印微孔掩膜的修正方法，包括以下步骤：步骤一：利用纳米压印的方法获得具备微孔结构的图形掩膜；步骤二：利用干法刻蚀工艺方法，对步骤一获得的图形掩膜上的微孔结构进行修正，得到修正后的图形掩膜；步骤三：对步...

本发明公开一种基于干法刻蚀工艺的黄光掩膜尺寸的控制方法，控制方法具体包括以下步骤：S1：制备黄光图形掩膜；S2：利用干法刻蚀工艺方法，根据期望的图形尺寸，对S1制备的黄光图形掩膜的掩膜尺寸进行处理；S3：利用S2得到的黄光图形掩膜进行后...

本实用新型涉及了一种用于干法刻蚀LED衬底的托盘装置，包括：托盘本体，包括底盘和定位销，所述定位销设于所述底盘的上表面；与所述托盘本体匹配的托盘上盖，所述托盘上盖的下表面开设有与所述定位销相匹配的定位槽，所述定位槽的深度小于所述托盘上盖...

本实用新型公开了一种真空吸盘和纳米压印设备，所述纳米压印设备包括滚压机构，所述真空吸盘包括：吸盘本体，吸附孔，所述吸附孔阵列设置在所述吸盘本体上，沿与滚压机构辊压前进方向垂直的方向的一列或多列吸附孔连通形成一个吸附单元，所述吸附孔阵列形...

本实用新型公开了一种斜拉式夹持装置，用于夹持软膜，包括：第一夹持装置，第一夹持机构和用于支撑的第一底座，所述第一夹持机构安装在所述第一底座上；第二夹持装置，所述第二夹持装置包括用于夹持软膜另一端的第二夹持机构，张紧机构，升降控制机构，第...