本发明公开一种纳米压印用母模板的颗粒清除方法及设备，包括：步骤S1：利用光学检测装置检测母模板的结构面，判断其是否存在颗粒；若是，则进入步骤S2；否则，无需进行颗粒清除；步骤S2：在母模板的结构面覆上粘性材料；步骤S3：将母模板结构面上...

本发明公开一种用于纳米压印的复合结构模板及其制备方法，复合结构模板包括：压印软膜以及嵌入在压印软膜内的骨架，骨架呈镂空状，骨架用于支撑压印软膜的自重，且能够在复合结构膜板受压力时，进行毫米级弯曲。本发明结构简单，其利用骨架增加压印软膜的...

本发明公开一种在3D弧面基材表面制备微纳结构图形的制备方法，包括：将3D弧面基材放置在具有弧面凸台的旋涂平台上，并在3D弧面基材表面旋涂一层纳米压印胶；将3D弧面基材放置在具有弧面凸台的压印平台上，利用具有反结构的PDMS软膜对3D弧面...

本发明公开一种具有自组装微结构图形压印母模的制备方法，包括：利用自组装工艺在基材上形成自组装微结构图形；利用具有自组装微结构图形的基材作为母模，制备第一子模；在硅基片表面涂胶，将第一子模上的反结构图形通过压印工艺压到硅基片的掩膜上；对压...

本技术公开一种旋涂匀胶治具及包括该治具的半导体旋涂均胶设备，包括：圆盘状的治具本体，且在治具本体的旋涂面上设有用于承载异形片的凹槽。本技术在传统的旋涂匀胶治具的基础上进行改进，在治具本体上开设用于承载异形片的凹槽，结构简单，成本低。本技...

本技术公开一种清洗机槽体内的鼓泡装置。鼓泡装置包括：鼓泡板以及若干鼓泡管道，在鼓泡板上分布有多个贯穿其正反面的孔洞，鼓泡管道安装于鼓泡板的反面，且其相对两对分别与鼓气管道连通，鼓泡管道上分布有多个鼓泡孔，且同一鼓泡管道上的多个鼓泡孔沿其...

本技术公开一种清洗机内药液密度检测装置，包括：检测槽体，检测槽体与药液槽连通；检测组件，检测组件包括：垂直设置于检测槽体内的导向柱以及由上至下依次套设于导向柱上的第一浮动环和第二浮动环，第一浮动环和第二浮动环能够在药液浮力的作用下沿着导...

本技术公开一种纳米压印用柔性模板的张力调整装置，张力调整装置包括：用于承载柔性模板的下承载环以及能够垂直运动的上压环；上压环上设有顶撑部，其与下承载环相互配合，用于调整柔性模板的张力。本技术能够解决现有纳米压印时柔性模板的搬运时位移、形...

本技术公开一种软膜晶圆压印装置，包括：晶圆置放台、框架以及辊轮压印组件，晶圆置放台用于放置晶圆；框架置放台为中间镂空的环形结构，其用于承载软膜框架，软膜框架内承载有软膜，框架置放台的相对两端分别与两组台体升降组件传动连接，两组台体升降组...

本技术公开一种软膜框架定位升降装置，包括：框架置放台、框架升降组件以及台体升降组件，框架置放台为中间镂空的环形结构，其用于承载软膜框架，软膜框架内承载有软膜；框架升降组件安装于框架置放台上，用于承接软膜框架，且带动软膜框架置于框架置放台...

本发明公开一种基于干法刻蚀的硅基板高深宽比的图形结构生成方法，包括：在硅基板上形成图形掩膜；利用氧氟类气体体系高选择比硅基刻蚀方法对步骤S1得到的硅基板进行掩膜刻蚀，得到高深宽比的图形结构；利用氟碳类气体体系低选择比硅基刻蚀方法对步骤S...

本发明公开一种针对压印图形的周期性结构变化的纳米压印方法，包括：制备具有产品设计图形的纳米压印模板；利用具有热塑性膨胀趋势的材料，在纳米压印模板的基础上，制备具有反向设计图形的软性子膜板；对制备好的软性子膜板施压控制其进行膨胀，使软性子...

本发明公开一种清洗机槽体内的鼓泡装置。鼓泡装置包括：鼓泡板以及若干鼓泡管道，在鼓泡板上分布有多个贯穿其正反面的孔洞，鼓泡管道安装于鼓泡板的反面，且其相对两对分别与鼓气管道连通，鼓泡管道上分布有多个鼓泡孔，且同一鼓泡管道上的多个鼓泡孔沿其...

本发明公开一种纳米压印设备及方法，包括：框架置放台、台体升降组件、框架升降组件、晶圆置放台、辊轮压印组件以及视觉检测组件，框架置放台用于承载软膜框架，软膜框架内承载有软膜；台体升降组件与框架置放台传动连接，用于带动框架置放台升降及倾斜，...

本发明公开一种清洗机内药液密度检测装置及方法，包括：检测槽体，检测槽体与药液槽连通；检测组件，检测组件包括：垂直设置于检测槽体内的导向柱以及由上至下依次套设于导向柱上的第一浮动环和第二浮动环，第一浮动环和第二浮动环能够在药液浮力的作用下...

本发明公开一种纳米压印用柔性模板的张力调整装置及方法，张力调整装置包括：用于承载柔性模板的下承载环以及能够垂直运动的上压环；上压环上设有顶撑部，其与下承载环相互配合，用于调整柔性模板的张力

本发明公开一种用于改善材质表面触感的微结构图形制备方法及产品,微结构图形制备方法包括以下步骤：S1：清洗基板；S2：在基板的表面涂覆一层光刻胶掩膜层；S3：对基板进行纳米压印，在基板的表面形成微纳米压印掩膜图形；S4：将带有光刻胶微纳米...

本发明公开一种基于干法刻蚀工艺的纳米压印模板制备方法，具体包括以下步骤：步骤一：清洗基板；步骤二：制备图形掩膜；步骤三：利用干法刻蚀工艺方法，根据期望的纳米压印模板结构，对基板进行刻蚀，期望的纳米压印模板的表面具有多个微结构单元，且每个...

本发明公开一种基于干法刻蚀工艺的纳米压印微孔掩膜的修正方法，包括以下步骤：步骤一：利用纳米压印的方法获得具备微孔结构的图形掩膜；步骤二：利用干法刻蚀工艺方法，对步骤一获得的图形掩膜上的微孔结构进行修正，得到修正后的图形掩膜；步骤三：对步...

本发明公开一种基于干法刻蚀工艺的黄光掩膜尺寸的控制方法，控制方法具体包括以下步骤：S1：制备黄光图形掩膜；S2：利用干法刻蚀工艺方法，根据期望的图形尺寸，对S1制备的黄光图形掩膜的掩膜尺寸进行处理；S3：利用S2得到的黄光图形掩膜进行后...