卡姆特有限公司专利技术

卡姆特有限公司共有41项专利

  • 本发明公开了一种方法,该方法可以包括通过用第一辐射照射凸块和相应区域,执行所述凸块和相应区域之间的高度差的第一测量;其中,所述第一测量受到第一测量误差的影响,所述第一测量误差由第一照明虚拟穿透到层中导致;其中,每个凸块具有邻近所述凸块的...
  • 本发明公开了一种用于测量多个凸块的顶部与层的上表面之间的高度差的方法,所述方法可以包括通过使用第一辐射照射所述凸块和相应区域,对所述凸块和所述相应区域之间的高度差执行第一测量;其中所述第一测量受到第一测量误差的影响;以及根据所述第一测量...
  • 本发明涉及多色打印。用于在包括不同功能的多个区的电路上打印多种颜色的材料的方法,该方法包括:接收或产生规定在区的功能和颜色之间的映射的打印方案;以及通过打印机模块根据打印方案并在电路的制造过程期间在电路上的多个区上打印多种颜色的材料中的...
  • 提供方法、系统和生产的被印刷的基板,其包括被用于标准化表面能的中间层处理的包含一种或更多种材料的基板和适应于已标准化的表面能的被数字地印刷的制剂。表面能标准化可以通过物理过程或通过选择性的化学过程进行。在一个实例中,自组装的单层被施用于...
  • 一种印刷可固化油墨的方法,可固化油墨包含反应性单体和低聚物的混合物;至少一种颜料;至少一种光引发剂;和酚醛树脂、氨基树脂和环氧树脂中的至少一种树脂。
  • 本发明涉及通过淀积导电墨水的互连缺陷的PCB修复。提供一种系统,其可包括:计算机,其被配置为处理电路的缺失导电材料的缺陷的区域的图像以及确定缺陷修正方案,所述缺陷修正方案定义至少一个缺失导电材料的缺陷应被修补的方式;以及导电墨水打印机,...
  • 一种方法和检查系统,包括:被配置为同时支撑多个晶片的多晶片支撑器件;被配置为获得由多晶片支撑器件支撑的多个晶片的图像的光学部件;被配置为在多晶片支撑器件和光学部件之间引入移动的机械台;以及被配置为处理由光学部件获得的图像的处理器。
  • 提供了一种用于在物体上印刷图案的方法和系统。该系统可以包括布置为在所述物体上印刷铜保护涂层油墨,以便提供至少一个铜保护涂层油墨图案的铜保护涂层印刷单元。该系统可以包括选自布置为在物体上印刷焊料掩模油墨以便提供至少一个焊料掩模图案的焊料掩...
  • 用于焊接掩模检验的系统和方法
    公开了用于焊接掩模检验的系统和方法。一种用于检验辅助印刷的系统和方法,该方法可以包括:在印刷工艺期间,由系统的印刷单元在衬底的区域上印刷图案;由系统的检验单元检验所述区域以提供检验结果;由所述系统的处理器基于所述检验结果来搜索缺陷;以及...
  • 本发明涉及印刷设备的真空台面。一种系统,包括:印刷模块,被配置成通过在基板上喷墨,在所述基板上印刷图案;和基板支承模块,包括:多孔材料模块,用于支承所述基板,并且在所述基板被放置在所述多孔材料模块的平坦的上表面上时向所述基板的多个位置提...
  • 本发明涉及固化UV反应性墨的紫外线发光二极管。一种用于在电路上印刷图案的方法,所述方法包括:在电路上喷射紫外线固化墨,以形成图案;和通过使所述图案受到从至少一个紫外线发光二极管(LED)产生的紫外线辐射来至少部分地固化所述紫外线固化墨。
  • 用于改进涂层的方法
    本公开涉及一种用于改进涂层的系统和方法,该方法包括:确定或接收多次迭代印刷方案,该多次迭代印刷方案表示要施加到电路上的涂覆材料的多次印刷迭代,该电路包括要由该涂覆材料涂覆的至少一个三维结构;其中该多次迭代印刷方案是基于该至少一个三维结构...
  • 本发明提供了一种用于增强选择性沉积工艺中的金属化的方法。具体地,提供了一种用于实现清洁衬底的方法,该方法可包括:在衬底的区域上沉积保护性材料,以防止该区域被有待在沉积工艺期间沉积的涂覆材料污染;和在所述涂覆材料固化之后从该区域去除保护性...
  • 本发明涉及多循环基板印刷。一种用于在基板上印刷期望图案的系统和方法,所述方法可包括:接收或产生用于在多个印刷循环期间印刷多个图案的印刷指令,其中,预计至少两个不同的印刷循环由喷嘴阵列的不同组喷嘴执行,其中,即使当喷嘴阵列的喷嘴发生故障时...
  • 一种在印刷电路板(PCB)上印刷阻焊层的系统和方法,该方法包括:在PCB由机械台支撑的同时,由检查单元获取PCB的多个区域的图像;基于所述图像来确定PCB模型和PCB之间的空间差异;基于(i)空间差异以及(ii)应当被涂覆阻焊层油墨的P...
  • 一种检验系统和方法。该方法可以包括:用第一偏振的入射光照射物体;执行(a)多重反射光信号的基于偏振的滤波,每个多重反射光信号从物体的至少两个不同的倾斜侧面被反射,以及执行(b)附加光信号的基于偏振的滤波,每个附加光信号从物体的一个单独的...
  • 一种用于监控检验站的操作员的系统和方法,该方法包括:由检验站在检验过程期间显示缺陷的图像和可疑缺陷的图像,所述可疑缺陷被期望由操作员在检验过程期间归类;检查操作员是否成功将该缺陷归类;以及对操作员将该缺陷归类为缺陷的成功或失败进行响应。
  • 本发明涉及制备样品的系统和方法,该方法可以包括操纵掩模和样品,因此将样品的不同侧面暴露给离子减薄机。操纵可以包括在保持样品和掩模之间的空间关系不变的同时,旋转掩模和样品。
  • 本发明涉及一种用于制备薄层的系统和方法。该方法可以包括通过操作器对准掩模和样品。将掩模和样品定位于离子减薄机前同时不改变掩模和样品之间的空间关系。研磨样品的第一暴露部分直到暴露薄层的第一侧壁。将掩模和样品定位于离子减薄机前使得掩模覆盖样...
  • 本发明涉及利用短脉冲LED照明的高级检查方法。一种照明模块可以包括:LED驱动器;带状电缆,该带状电缆包括多个导体,该多个导体具有高比率形状因数和低阻抗及低电感因数;形状因数是在带状电缆的宽度与带状电缆的厚度之间的比;发光二极管(LED...