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达兴材料股份有限公司专利技术
达兴材料股份有限公司共有129项专利
液晶配向用组成物、液晶配向膜与液晶显示元件制造技术
本发明提供一种液晶配向用组成物,其包含聚合物以及溶剂。聚合物选自由聚酰胺酸及聚酰胺酸衍生物所组成的群组中至少一者。溶剂包含吡咯酮化合物及甲酰胺化合物,吡咯酮化合物与甲酰胺化合物分别具有如式(I)与式(II)所示的结构,式(I)与式(II...
清洁组合物、清洗方法和半导体制造方法技术
本发明提供一种用于电子产业的清洁组合物,所述清洁组合物包括40~90重量%的具有下列式(1)结构的胺类溶剂、四级铵盐和水。其中,R1、R2、R4及R5各自独立为氢、碳数1~4的直链烷基、碳数3~5的支链烷基、碳数1~4的直链烷基胺、或碳...
感光性树脂组合物及其用途、显示设备、和半导体装置制造方法及图纸
公开感光性树脂组合物及其用途、显示设备、和半导体装置。所述感光性树脂组合物包含:碱可溶树脂、不同于该碱可溶树脂的可聚合单体、及包括至少一种由式I所示的肟酯类化合物的光引发剂。该式I所示的肟酯类化合物具有高的热稳定性,在一般用于制备感光性...
碱可溶性树脂、保护层组合物、保护层、叠层体以及光刻胶图案的形成方法技术
本发明提供一种碱可溶性树脂、保护层组合物、保护层、叠层体以及光刻胶图案的形成方法。保护层组合物包括碱可溶性树脂(A)、疏水性树脂(B)以及溶剂(C),其中碱可溶性树脂(A)包括下述式(1)所示的结构单元(a1)、下述式(2)所示的结构单...
蚀刻液组合物及应用它的蚀刻方法技术
本发明提供一种蚀刻液组合物,用以蚀刻含铜金属层。前述蚀刻液组合物包含过氧化氢、唑类化合物、氟离子源、无机酸以及有机胺化合物。其中前述有机胺化合物为不包含氨基酸类与氢氧化季铵的化合物,且前述蚀刻液组合物的酸碱值大于或等于1.5并小于或等于...
聚酰亚胺前驱物、树脂组合物、聚酰亚胺、及具有牺牲保护层的半导体组件制造技术
本发明提供一种聚酰亚胺前驱物,通过该聚酰亚胺前驱物的结构设计,而得以令经由该聚酰亚胺前驱物反应而得的聚酰亚胺不仅具有耐液态封装材料的性质且可在预定条件下被移除,而可作为半导体组件封装过程的牺牲保护层,以避免芯片于封装过程中被液态封胶材料...
液晶组合物及液晶显示设备制造技术
一种液晶组合物,包含液晶组分。该液晶组分包括式I所示的液晶化合物,及式II及式III的一者所示的液晶化合物。该式I至该式III中的环A至环E、Z1、X1、X2、R1至R5、m、n、o及q的定义分别如说明书及权利要求书所载。本发明通过该式...
碱性清洗组合物、清洗方法和半导体制造方法技术
本发明提供一种碱性清洗组合物,其包含碱性化合物、5~40重量%的丙二醇单甲醚、10~30重量%的水及极性溶剂。其中,所述极性溶剂包含缩醛类、醇醚类、吡咯烷酮类或其组合的溶剂,且所述碱性清洗组合物不包含苯磺酸。且所述碱性清洗组合物不包含苯...
一种重金属捕集剂以及去除水溶液中的重金属的方法技术
本发明提供一种重金属捕集剂,包括至少一种硫化物以及至少一种不含羧基的多氨基化合物,可用于捕集水溶液中的重金属,例如铜、镉、铅、汞、镍、铬、锰、锌、锡、锑或砷其中之一或其混合。合。
液晶配向剂、液晶配向膜以及液晶显示元件制造技术
一种液晶配向剂包括聚合物以及溶剂。聚合物由二胺成分与四羧酸二酐成分反应而获得,其中二胺成分包括由式1所示的化合物,以及四羧酸二酐成分包括由式2所示的化合物:在式1中,X为单键、
二胺化合物、制备二胺化合物的方法及二胺化合物的应用技术
一种二胺化合物,由下式(1)所示,其中,R1、R2、R3、R4、R5、X1、X2、X3、X4、m、n、a、b、c及d如说明书及权利要求书所定义。本发明亦提供一种制备二胺化合物的方法及二胺化合物的应用。二胺化合物的方法及二胺化合物的应用。...
可聚合化合物、液晶组成物和液晶显示装置制造方法及图纸
一种可聚合化合物具有式(I)的化学式:其中环A、环B、Z1、Z2、R、P、n和m分别如说明书及申请专利范围所述。包含所述可聚合化合物的液晶组成物和液晶显示装置具有良好的预倾角稳定性和低温储存性。存性。
可雷射离型的组成物、其积层体和雷射离型方法技术
本发明提供一种可雷射离型的组成物,包括:压克力树脂、遮光材、添加剂和溶剂;其中前述压克力树脂包括含有选自叔胺基和仲胺基的群中至少一种的含氮有机基、含有环醚基的有机基和含有羟基的有机基,前述添加剂至少包括一种密着促进剂。所述可雷射离型的组...
取向剂、二胺化合物、取向膜及液晶显示组件制造技术
一种取向剂,包含第一聚合物,其包含侧链结构,其中侧链结构包含哌嗪基及式(1)所示的结构,其中侧链结构的末端为具有取向力的一价有机基,在式(1)中,环A为含有至少一个芳香环的二价有机基。
聚(酰亚胺-酯-酰胺)共聚物以及光学膜制造技术
本发明提供聚(酰亚胺‑酯‑酰胺)共聚物以及光学膜。聚(酰亚胺‑酯‑酰胺)共聚物包括酰亚胺键、酯键以及酰胺键。酰亚胺键、酯键与酰胺键的摩尔比为40~80:10~30:5~30。
锂离子电池负极活性材料、锂离子电池负极以及锂离子电池制造技术
锂离子电池负极活性材料包含一次粒子,此一次粒子包含硅、锡及锑,其中一次粒子在X光衍射2θ位置为29.1±1°、41.6±1°、51.6±1°、60.4±1°、68.5±1°、76.1±1°处具有特征峰。
聚烯烃衍生物及复合材料制造技术
本发明提供一种聚烯烃衍生物及复合材料。聚烯烃衍生物是由经改性的聚烯烃与胺基化合物经反应而成,其中经改性的聚烯烃是由马来酸酐接枝于聚烯烃上而形成。胺基化合物包括聚醚胺及烷基胺。基于经改性的聚烯烃所含有的马来酸酐基为100摩尔份,烷基胺的反...
暂时粘着组合物、暂时粘着膜、复合膜、及其使用方法技术
本发明提供一种暂时粘着组合物,其包含多官能交联剂、聚合物以及溶剂。多官能交联剂包含含有至少两个选自封端型异氰酸酯基、烯基醚基和烃氧亚甲基的官能基的化合物,且各封端型异氰酸酯基为具有被封端剂保护的异氰酸酯基。聚合物具有能与多官能交联剂反应...
光阻脱除剂和电子元件及其制造方法技术
一种光阻脱除剂,包括由式1表示的醇醚类化合物、选自式2表示的化合物、式3表示的化合物及其混合物的极性溶剂以及至少一种由式4表示的仲醇胺或叔醇胺,其中n为1~3的整数;R
锂离子电池负极活性材料、锂离子电池负极以及锂离子电池制造技术
锂离子电池负极活性材料包含硅、锡及铜锌合金,其中锡实质上为元素状态。
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