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达兴材料股份有限公司专利技术
达兴材料股份有限公司共有129项专利
液晶化合物及含有其的液晶组合物制造技术
一种液晶化合物具有下式(I)所示的结构,该式(I)中的各个基团限定如说明书及权利要求书所载。本发明液晶化合物具备高介电异向性、低旋转粘度、适当折射率异向性、广的液晶向列相范围、与其他液晶化合物的相溶性佳、光及热稳定性佳等性质。本发明另提...
感光性树脂组合物、固化膜和电子元件制造技术
本发明提供一种感光性树脂组合物,包括碱可溶树脂、丙烯酸系单体、封端聚异氰酸酯、光引发剂、由式1表示的多官能环氧化合物和/或其聚合物以及溶剂,其中:E各自独立为具环氧基的单价基团;Z各自独立为芳香族二价连接基;P各自独立为C1-C12的三...
形成含银的导电图案层的方法技术
一种形成含银的导电图案层的方法,包括将感光性组合物涂布在基底上以及使该基底上的该感光性组合物进行UV光硬化,以形成含银的导电图案层,其中该感光性组合物包括溶剂、光引发剂、含氟有机银络合物、低反射率材料和光可聚合单体和/或其寡聚物。
形成金属导线的方法技术
一种形成金属导线的方法,包括下列步骤。将感光性组合物涂布于基底;使该基底上的该感光性组合物进行光照射硬化,形成含有催化剂图案的膜层;再施以无电电镀法以形成金属导线;其中该感光性组合物包括醋酸钯、低反射率材料、光引发剂、光可聚合单体和/或...
具有羟基的芴系化合物、感光性组合物及透明膜制造技术
一种具有羟基的芴系化合物、感光性组合物及透明膜。一种具有羟基的芴系化合物,由式(I)所示,于式(I)中,R1表示 或其中,X1表示氢或甲基;X2表示单键或亚甲基;X3及X4各自表示氢或甲基;R2及R3各自表示单键、亚烷基、亚烷氧基、烷氧...
用于热阻隔层的组合物制造技术
一种用于热阻隔层的组合物包含平均分子量范围为10000~1000000的聚酰胺酸/聚酰亚胺树脂及混合溶剂,该聚酰胺酸/聚酰亚胺树脂包括通式(1)的重复单元,其中,通式(1)的R1为二价连结基,R2为具有1到16个碳原子的直链、支链或环状...
液晶配向组合物制造技术
一种液晶配向组合物,包含至少一聚合物及混合溶剂,该聚合物是选自于聚酰胺酸、聚酰亚胺或前述两者的组合,该混合溶剂是选自于乙二醇丁醚与氮-异丙基-2-吡咯烷酮的组合,或乙二醇丁醚、氮-异丙基-2-吡咯烷酮及辅助溶剂的组合,其中,该辅助溶剂能...
硅氧烷三酸酐、聚合物、液晶配向剂、液晶配向膜以及液晶显示元件制造技术
一种硅氧烷三酸酐,具有式1所示的结构,其中R1到R7、D1到D3以及各个G的定义如说明书中所述。
感光性树脂组合物、电子元件及其制造方法技术
一种感光性树脂组合物,包括光起始剂、碱可溶树脂、可聚合单体、密着促进剂、原酸酯以及溶剂,其中密着促进剂为分子量100到30000的硅烷化合物。
(甲基)丙烯酸酯化合物、(聚)氨酯(甲基)丙烯酸酯及其合成方法技术
一种(聚)氨酯(甲基)丙烯酸酯,包括乙烯性不饱和基团、羟基以及大于70重量%的多价饱和烃基,其中乙烯性不饱和基团的平均官能度为0.5~1.5;羟基的平均官能度为0.5~1.5;且该(聚)氨酯(甲基)丙烯酸酯的数量平均分子量小于20000...
耐蚀刻光阻组合物制造技术
一种耐蚀刻光阻组合物,包含碱可溶树脂以及一或多数个分散于该碱可溶树脂中的无机材料。该碱可溶树脂是选自于松香树脂、经改质松香树脂、酚醛树脂或前述的一组合。每一无机材料具有片状外型、≦2的莫氏硬度及0.5至2μm的一次颗粒尺寸范围,该无机材...
液晶化合物、液晶组合物以及液晶显示元件制造技术
一种液晶化合物,其具有如式(I)所示的结构:其中R1、R2、A1、A2、A3、Z1、Z2、Z3、m与n的定义如内文所定义,此液晶化合物具有高光学各向异性以及广向列相温度范围,藉此,有利于液晶化合物的保存及扩大其应用范围。
液晶组合物和液晶显示组件制造技术
一种液晶组合物,包括由式I表示的成分、由式II表示的成分和由式III表示的成分:其中R1、R2、R3、R4、A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8、A9、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6、m、n、o和p的含义如说明书中所述,且...
感光树脂组成物、感光树脂及有机发光二极管显示元件制造技术
本发明公开一种感光树脂组成物、感光树脂及有机发光二极管显示元件,该感光树脂组成物包含聚苯恶唑前驱物与感光性化合物。此感光树脂组成物可制备感光树脂,并可将感光树脂应用于有机发光二极管显示元件。由此可减少像素之间产生漏光的现象,而可提升有机...
液晶配向剂、液晶配向膜和液晶显示元件制造技术
一种液晶配向剂,包括第一聚合物和第二聚合物,其组成式分别如式1和式2所示:式1;式2,其中m+n=1且m≥0,o+p=1且o≥0,R1和R3分别是衍生自四羧酸二酐的四价有机基,且至少一部分的R1和至少一部分的R3衍生自芳香族四羧酸二酐,...
光阻脱除剂和电子元件及其制造方法技术
一种光阻脱除剂,包括由式1表示的醇醚类化合物、选自式2表示的化合物、式3表示的化合物及其混合物的极性溶剂以及至少一种由式4表示的仲醇胺或叔醇胺,其中n为1~3的整数;R1为C1-C4烷基;R2各自独立为氢或甲基;X1和X2可分别为C1-...
蚀刻液组合物及蚀刻方法技术
一种蚀刻液组合物,用于蚀刻含铜及含钼的多层薄膜,蚀刻液组合物包含过氧化氢、第一有机酸或其盐类、第二有机酸或其盐类以及醇胺化合物。第一有机酸与铜的螯合常数大于、等于0且小于6,基于蚀刻液组合物为100重量百分比,第一有机酸添加比例为5.5...
蚀刻液组合物及蚀刻方法技术
一种蚀刻液组合物,用于蚀刻含铜金属层。蚀刻液组合物包含过氧化氢、质子源、有机碱化合物与氨基酸类化合物或其盐类,其中,质子源排除含氟酸,有机碱化合物是具有至少一个氮原子与至少一个碳原子的链状化合物,且有机碱化合物的pH大于8,氨基酸类化合...
感光树脂组合物及其形成的间隙物制造技术
一种感光树脂组合物,包含碱可溶树脂、多官能基单体、光起始剂、紫外光吸收剂及溶剂;其中,该光起始剂是选自于或该紫外光吸收剂是由下式(I)所示的二芳基甲酮:于式(I)中,R表示氢或C1-C8烷基。本发明感光树脂组合物经照光固化后,可形成近似...
聚合物、液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示组件制造技术
一种聚合物,包括由式1-1或式1-2表示的单元:式1-1,式1-2;以及由式2表示的单元,式2,其中R1为四价有机基团,R2和R4分别为二价有机基团,R3为不同于>R1(OH)2的二价有机基团;式1-2表示的单元为由式1-1表示的...
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