本发明公开了一种卧式自动石英玻璃抛光设备，涉及玻璃加工技术领域。本发明包括抛光台，所述抛光台的顶部固定安装有两个龙门架，两个所述龙门架上固定安装有同一个水平设置的换位电动导轨，所述换位电动导轨的底部驱动安装有换位电动滑台，所述换位电动滑...

本发明涉及石英玻璃转运装置技术领域，特别是涉及一种石英玻璃多工序处理用转运装置，包括智能移载车，智能移载车的上侧设置有储料箱，储料箱的两侧等距镜像设置有储料机构，储料箱的另两侧等距镜像设置有辅助机构，储料箱的侧面对应辅助机构位置设置有加...

本技术涉及一种光栅尺用防护装置，旨在解决当前光栅尺固定在一些机器上对机器进行监测时，光栅尺上由于长期使用可能会导致光栅尺的滑动面上堆积有大量的碎屑，影响读数头的正常滑动，无法准确对机器进行监测，严重影响了监测的结果的技术问题，包括光栅尺...

本技术涉及一种双面滚轴紫外压印成型装置，旨在解决当前的紫外压印工艺在进行加工时，由于其是通过滚轴于衬底上压印，压印后还需要等待其固化后才可继续操作，导致压印的效果降低的技术问题，包括横梁以及构造于横梁两端的侧板，两个所述侧板的相向面底部...

本技术涉及一种纳米压印夹持装置，旨在解决当前纳米压印中主流为软模具进行压印制程，因此软模具的张力控制尤其为重要，可由于软模具的张力控制较为困难，无法在压印制程中保障纳米压印的效果的技术问题，包括支撑框，所述支撑框内四侧面均等距开设有多个...

本发明公开了一种激光陀螺镜片外圆研磨抛光设备，本发明涉及镜片研磨抛光技术领域，包括磨轮，该磨轮用于对激光陀螺镜片外圆进行研磨抛光加工，磨轮的顶部设置有联动杆，环形套板，该环形套板用于对研磨抛光时产生的大量飞溅碎屑进行阻挡，该一种激光陀螺...

本技术公开了全自动纳米压印模具，其中包括基板，所述基板上设置有压印纹理，所述基板的内部设置有加热组件，所述基板的内部设置有降温组件，通过设置基板、压印纹理、加热组件和降温组件，在使用时，首先在待加工的材料表面涂上光刻胶，然后将基板压在其...

本发明公开了一种光栅尺的运输固定装置，本发明涉及运输固定技术领域，包括外壳、夹持机构、按压机构，夹持机构包括支撑架，支撑架底部的中间处开设有一字形孔，支撑架外侧的边侧处滑动安装有连接滑块，连接滑块的顶部固定安装有夹持板，连接滑块的外侧与...

本技术公开了一种衍射光栅制作装置，其中包括底座，所述底座的顶部设置有反射组件，底座的顶部设置有固定组件，滑行槽开设于底座的顶部，滑动轮滑动连接于滑行槽的内部，固定杆设置于滑动轮的顶部，支杆设置于固定杆的顶部，边框铰接于支杆的顶部，固定螺...

本发明公开了一种干法刻蚀机用芯片连续提取装置，包括进料台，进料台的一侧固定连接有送料机构，送料机构包括斜侧挡板，斜侧挡板的一侧固定连接有斜置板，斜侧挡板的一侧通过转动栓转动连接有滚珠，滚珠远离斜侧挡板的一侧通过转动栓转动连接有斜长板，斜...

本实用新型公开了一种二氧化硅合成装置，具体涉及合成装置领域，包括合成箱，合成箱为口部朝上的筒体状设置，的顶端竖直插装有三组支撑柱，且位于合成箱的底端开设有出料口，合成箱位于出料口的位置处螺纹连接有有底部封堵盖，合成箱的顶端竖直插装有顶盖...

本实用新型涉及真空磁控溅射绕卷镀膜装置技术领域，且公开了一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置，包括真空机构，所述真空机构的内部分别安装有靶向机构和收卷机构，所述真空机构包括真空室，所述真空室的两侧分别安装有抽真空装置和氮气设备，所述靶向机构包括...

本发明公开了一种准分子紫外激光光刻装置，包括底座，所述底座的顶端居中开设有凹槽，且底座的一侧开设有接通凹槽的通槽，所述凹槽内活动设置有穿过通槽的气压固定组件，且底座顶端的两侧均居中开设有滑槽，两个滑槽内均转动安装有丝杆一，且丝杆一延伸出...

本发明公开了一种磁控溅射镀膜装置，包括底，所述圆盘型支撑底座的顶端呈环形阵列开设有多个固定槽，且多个固定槽内均固定安装有翻转传动组件，所述圆盘型支撑底座顶端的中心固定安装有伺服电机，且伺服电机的电机轴穿过圆盘型支撑底座的一端固定连接有X...

本发明公开了一种干法刻蚀装置，包括设备壳体，所述设备壳体内底部固定安装有支撑组件，且支撑组件的顶端居中活动设置有晶圆主体，所述支撑组件包括支撑台，所述支撑台的顶端居中开设有供晶圆主体活动设置的放置槽，且支撑台的外缘面上呈环形阵列构造有多...

本实用新型涉及平面反射式闪耀光栅技术领域，且公开了一种新型平面反射式闪耀光栅，包括衍射机构，所述衍射机构的底部固定连接有反射机构，所述衍射机构包括顶层透明膜，所述顶层透明膜的底部固定连接有顶部折光块，所述顶层透明膜的底部安装有底部透光膜...

本实用新型公开了一种闪耀光栅制作用浸渍设备，包括底座，所述底座的底部固定连接有支撑腿，所述底座顶部的中间焊接有浸渍筒，所述底座顶部的左侧固定连接有支撑板，且支撑板的内部设置有浸渍组件，所述支撑板的一侧连接有升降板，且升降板的底部固定连接...

本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域，且公开了一种磁控溅射镀膜机，包括镀膜机，所述镀膜机的内部设置有翻转机构，所述镀膜机内部设置有调节机构，所述翻转机构包括放置台，所述放置台的顶部开设有升降槽，所述升降槽内部的底部固定连接有第一电动升降柱...

本发明涉及光栅生产技术领域，且公开了一种闪耀光栅及其制备方法和应用，S1，选硅片：选取质量较高的硅片进行加工得到硅片，S2，氧化物：通过热氧化技术将S1得到的硅片放置于氧气、水汽或两者的混合气氛中高温(900度以上)加热，使氧气分子或水...

本实用新型涉及二氧化硅技术领域，且公开了一种二氧化硅制备用提纯装置，包括震动筛，所述震动筛的底部固定安装有震动器，所述震动器的顶部固定连接有减震弹簧，所述减震弹簧的数量为若干，所述减震弹簧的顶部与震动筛的底部固定连接，所述震动筛的一侧固...