本实用新型提出的一种冷却式多孔除湿装置，包括顶盖、底盖、外夹层和多个内管；所述外夹层具有内部圆周面和外部圆周面，在所述外夹层的外部圆周面上分别开设有冷却介质进口和冷却介质出口，通过所述冷却介质进口和冷却介质出口向外夹层内通入和导出冷却介...

本发明涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种基于半导体附属设备的信息采集监控系统，包括服务器、警报装置和多个附属设备，每个附属设备均包括控制器，各控制器均与服务器连接，服务器与警报装置连接，控制器用于采集附属设备的信息，服务器用于储存并处...

本发明提供一种在线可拆废气处理装置，涉及废气处理设备领域，包括废气燃烧装置、粉尘分离装置、水箱和后置除尘装置，粉尘分离装置包括第一粉尘分离腔、第二粉尘分离腔和连接通道，第一粉尘分离腔的上端与废气燃烧装置连通，第一粉尘分离腔的内部从上至下...

本发明提供一种处理半导体DPY工艺的废气处理装置，包括侧壁和顶盖，顶盖盖合于侧壁的顶部，顶盖设置有与燃烧腔连通的废气入口，侧壁的底部设置有与燃烧腔连通的废气出口，侧壁的内部形成有夹层空腔，侧壁内表面的上部设置有连通夹层空腔与燃烧腔的出水...

本发明提供一种半导体废气处理装置及处理方法，半导体废气处理装置包括废气处理装置、可燃气体输送管线、氧气输送管线和制程废气输送管线，可燃气体输送管线与燃烧器连通，可燃气体输送管线上设置有第一质量流量控制器；氧气输送管线与燃烧器连通，氧气输...

本发明涉及气体处理技术领域，提供一种废气处理系统，包括：反应容器，反应容器包括容器本体和盖体，容器本体与盖体限制出第一腔体和环绕与第一腔体外周的第二腔体，第一腔体的第一端用于通入待处理的第一气体，第一腔体的第二端与第二腔体连通，第二端为...

本发明涉及半导体加技术领域或者制冷技术领域，提供一种蒸发器换热组件、换热水箱及晶圆加工设备用温控装置。蒸发器换热组件包括：蒸发器，包括翅片；导流组件，包括位于所述蒸发器相对两侧且上下错位设置的导流槽，位于所述蒸发器相对两侧的所述导流槽之...

本实用新型提出的一种以去离子水作为循环介质的半导体温控装置，包括相互独立的至少一个半导体温控模块，半导体温控模块包括制冷主回路、冷却液循环回路和控制单元；制冷主回路包括依次连接的压缩机、冷凝器、干燥过滤器、视液镜、第一电子膨胀阀、蒸发器...

本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及制冷系统及温控方法，制冷系统包括冷却装置和循环液装置，冷却装置包括压缩机、冷凝器、蒸发器、过冷储液器和三通阀，压缩机的出口、冷凝器的放热通路、三通阀的第一通口、三通阀的第二通口、蒸发器的吸热通路与压...

本发明提供一种用于半导体温控系统及方法，温控系统包括循环冷却水系统、制冷系统和循环液系统，制冷系统包括压缩机、储液罐、主回路电子膨胀阀、冷旁通电子膨胀阀、热气电子膨胀阀、蒸发器和气液热交换器，压缩机的出口分别与冷凝器的入口、热气电子膨胀...

本发明涉及热交换技术领域，提供一种温控系统及温控方法。温控系统，包括：制冷系统和循环系统，制冷系统包括第一制冷系统和第二制冷系统，第一制冷系统包括连接形成循环的第一压缩机、第三换热器的放热侧、第一节流件和第一换热器的吸热侧，第二制冷系统...

本发明提供一种用于半导体温度控制的温控系统及温控方法，涉及半导体制造设备领域，温控系统包括制冷装置、循环装置和控制装置，循环装置包括加热器、水箱、水泵、第一温度传感器、第二温度传感器和控制阀，水泵的出口与制冷装置的入口连通，制冷装置的出...

本发明提供一种半导体温控设备及温控方法，半导体温控设备包括制冷系统、循环系统和控制系统，制冷系统包括压缩机、冷凝器、电子膨胀阀和蒸发器，压缩机的出口与冷凝器的入口连接，冷凝器的出口与电子膨胀阀的入口连接，电子膨胀阀的出口与蒸发器的第一入...

本发明涉及泛半导体技术领域，提供一种半导体制程废气处理的控制方法及设备。半导体制程废气处理的控制方法，应用于半导体制程废气处理设备，废气处理设备包括依次连通的处理容器、第一冷却容器、水箱、第二冷却容器和排气管，所述控制方法包括：获取所述...

本发明涉及泛半导体技术领域，提供一种半导体制程废气处理设备，包括：处理容器、第一进气管和第二进气管，处理容器限制出处理腔；第一进气管与处理腔连通并用于向处理腔内通入待处理气体；第二进气管套设于第一进气管的外侧并连接于处理容器，第二进气管...

本发明涉及热交换技术领域，提供一种温度调控系统及温度调控方法。温度调控系统包括制冷系统与循环系统，制冷系统包括第一制冷系统和第二制冷系统，第一制冷系统包括连接形成循环的第一压缩机、第三换热器的放热侧、第一节流件和第一换热器的吸热侧，第二...

本发明提供一种多通道恒温装置及其控制方法，涉及半导体制冷技术领域。多通道恒温装置包括压缩制冷单元、循环液单元和载冷剂单元，循环液单元包括多个循环液通道，压缩制冷单元包括蒸发器，载冷剂单元包括载冷剂水箱及换热器，每一循环液通道包括循环液水...

本发明涉及温控技术领域，公开了一种宽温域温控装置及其控制方法，其中温控装置包括：制冷系统和载冷剂系统，制冷系统包括依次串联形成回路的蒸发器的第一侧、压缩机、冷凝器和主路电子膨胀阀，载冷剂系统包括依次串联形成回路的蒸发器的第二侧、加热组件...

本发明提供一种半导体温度控制装置及其控制方法，该装置包括压缩制冷单元、循环液单元和载冷剂单元，循环液单元包括多个循环液通道，压缩制冷单元包括蒸发器，载冷剂单元包括载冷剂水箱、多个换热器及多个三通阀，每一循环液通道包括循环液水箱，换热器与...

本发明提供了一种半导体工艺的废气处理系统及其废气的处理方法，包括：第一传感器、第一三通阀、燃烧室、水洗支路和水洗室；第一三通阀的第一出口通过燃烧室与水洗室连通，第一三通阀的第二出口通过水洗支路与水洗室连通。本发明提供的半导体工艺的废气处...