一种用于准直宽带辐射的组件，组件包括：凸折射单透镜，该凸折射单透镜具有用于将宽带辐射耦合到透镜的第一球形表面和用于将宽带辐射耦合出透镜的第二球形表面，其中第一球形表面和第二球形表面具有共同中心；以及安装部，用于在多个接触点处保持凸折射单...

本文中公开了一种用于光刻设备的衬底布置，该衬底布置包括：抗蚀剂；光敏的抗蚀剂下层；以及衬底；其中抗蚀剂下层的曝光阈值低于抗蚀剂的曝光阈值。抗蚀剂和抗蚀剂下层对EUV辐射都是光敏的。

一种计算机实施方法，所述计算机实施方法产生控制动作以用于诸如通过将所述控制动作传输到生产系统的控制系统来控制所述生产系统。所述计算机实施方法包括：通过存储器单元接收表征所述生产系统的目前状态的观测数据集合；通过所述存储器单元的第一神经网...

一种用于光刻设备的系统包括：衬底台；另一装置；以及至少一个可变形分隔件。衬底台(例如晶片台)被布置为支撑衬底。该系统可配置为处于第一配置，使得装置的表面面向并邻近衬底和衬底台。至少一个可变形分隔件或者：(a)当系统处于第一配置时，从衬底...

披露一种用于光刻设备的掩模版平台的光学设备。所述光学设备包括：反射型光学元件，所述反射型光学元件包括用于曝光至辐射的表面；至少两个电极，所述至少两个电极位于所述表面处；以及测量系统，所述测量系统被配置成测量所述反射型光学元件在所述至少两...

一种光刻设备，包括：照射系统；支撑结构；衬底台；投影系统以及加热系统。所述照射系统被配置成调节辐射束。所述支撑结构被构造成支撑掩模版和表膜组件，所述掩模版和表膜组件用于接收由所述照射系统调节的所述辐射束。所述衬底台被构造成支撑衬底。所述...

公开了非暂态计算机可读介质、系统和计算机实现的方法，该方法描述了获取关于印刷图案的热点(HS)位置信息；获取用于搜索印刷图案以确定成像设备的局部焦点(LFP)的LFP搜索标准；选择印刷图案中包含HS的HS区域；并基于LFP搜索标准确定靠...

公开了用于增加光刻系统的焦深的系统、方法和计算机程序。在一个方面，一种方法包括提供光谱、掩模图案和光瞳设计，光谱、掩模图案和光瞳设计一起被配置成为光刻系统提供焦深。该方法还包括迭代地改变光谱和掩模图案中的辅助特征以提供增加焦深的经修改的...

本公开涉及确定使用光刻工艺在衬底上形成的目标结构的信息。在一种布置中，提供具有悬臂和探头元件的悬臂探头。探头元件从悬臂向目标结构延伸。在悬臂探头中产生超声波。超声波通过探头元件传播到目标结构中，并从目标结构反射回到探头元件中或回到从悬臂...

公开了通过选择性地去除材料而图案化目标层的方法和设备。在一布置中，用图案化束辐照目标层。图案化束产生呈等离子体图案的等离子体，该等离子体在局部与目标层相互作用以限定待从目标层去除何处的材料。在辐照期间，向衬底施加偏压以控制撞击在目标层上...

一种激光束放大系统，包括多个激光放大器，所述多个激光放大器被配置成以串联方式放大激光束，其中所述激光放大器中的至少一个由多个致动器支撑，所述多个致动器被配置成使所述激光放大器以受控方式运动，并且由此向所述激光束施加期望的运动。

描述了一种快速动态波片。本系统和方法利用在板侧面施加力时在板内部产生的应力双折射。力是使用一组沿板的(多个)侧面对称分布的压电致动器施加的。可以使用控制单元控制力的大小。产生的应力双折射跨越板空间地变化。通过仔细调整力，板可以转换为具有...

光学模块被配置为使光束通过。光学模块包括：多个透镜，光束穿过多个透镜，多个透镜包括至少一个非球面复曲面透镜；以及光学安装装置，其中安装了多个透镜。多个透镜相对于光束的线性聚焦幕而被放置，线性聚焦幕与感兴趣区域相交。光学安装装置被布置在极...

一种对用于在光刻过程中图案化衬底的基本上不规则的图案布局的图案特征进行分组的方法。该方法包括：获得至少一个基本上不规则的图案表示，至少一个基本上不规则的图案表示中的每个基本上不规则的图案表示都与相应的感兴趣层相关；基于几何形状和/或与处...

本发明提供一种物体保持器，所述物体保持器用于保持物体，所述物体保持器包括：夹具侧，所述夹具侧用于夹持所述物体，其中，所述夹具侧是导电的；至少一个电极，所述至少一个电极被布置在距所述夹具侧一距离处且与所述夹具侧电隔离；控制器，所述控制器被...

披露了一种用于制造能够用作空芯光子晶体光纤的一部分的毛细管的方法。所述方法包括获得具有包括第一壁厚的毛细管壁的毛细管；和化学蚀刻所述毛细管壁以减小所述毛细管壁的壁厚。在执行所述蚀刻步骤期间，沿毛细管的长度局部地改变与所述蚀刻步骤中所使用...

一种用于训练诊断模型的计算机实施方法，该诊断模型用于诊断生产系统，其中该生产系统包括多个子系统。适应性诊断模型包括：对于每个子系统的相应的第一学习模型，其被布置为接收输入数据，并在相应的压缩潜在空间中生成用于生产系统的压缩数据。第二学习...

本文公开了一种操纵器或操纵器的阵列。操纵器操纵投射系统中的带电粒子束。该操纵器包括具有主表面的衬底与该主表面中的相关联的孔之间的贯穿通道。该贯穿通道被配置为带电粒子束的路径的通过。主表面之间的该贯穿通道的内壁包括被配置为操纵该带电粒子束...

一种用于检测激光束未对准的孔装置，所述孔装置包括：本体，所述本体包括第一开口且限定第一轴线；束流收集器；光学元件，所述光学元件包括第二开口，其中，所述第一开口和所述第二开口与所述第一轴线同轴，所述光学元件被配置成将未对准的激光束重新引导...

本发明提供了一种减少具有投影阶段和空闲阶段的光刻过程中的循环误差效应的方法，所述方法包括：在第一控制回路中控制第一模块的第一位置，所述第一模块是投影系统的位置受控的反射镜，所述第一控制回路具有第一带宽并且包括具有第一循环误差的第一位置测...