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本发明公开了一种适用于电镀车间的高压水给水控制系统及其控制方法，它包括前端给水系统和后端控制系统，所述的前端给水系统包括集水装置（6）、与集水装置（6）进水口相连通的补水阀、设置在集水装置（6）内的液位监控组件（3）和与集水装置（6）相连接...该专利属于成都先进功率半导体股份有限公司;乐山无线电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都先进功率半导体股份有限公司;乐山无线电股份有限公司授权不得商用。