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本实用新型提供了一种制备多晶硅还原生产用混合气供料的装置。该装置包括：本体，所述本体内限定出汽化空间；氢气进料口，所述氢气进料口设置在所述本体上；三氯氢硅进料口，所述三氯氢硅进料口设置在所述本体上；二氯二氢硅进料口，所述二氯二氢硅进料口设置...
该专利属于中国恩菲工程技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中国恩菲工程技术有限公司授权不得商用。

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