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一种位置可调的分立平面环形F-P腔制造技术
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文档序号:9967040
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本发明涉及一种位置可调的分立平面环形F-P腔,属于外腔半导体激光器技术领域。具体包括第一高反射膜、第二高反射膜、第一基底、第二基底和待测反射膜;光线入射到待测反射膜上,在入射点发生反射和折射,形成外部反射光束和进入F-P腔的折射光束;其中进...
该专利属于北京理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京理工大学授权不得商用。
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