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本发明公开了一种硅块抛光方法，包括：采用金刚砂磨石进行研磨，对开方后的硅块进行形状修正和初步表面处理；采用毛刷对经过所述第一抛光工序处理的硅块进行研磨，去除硅块表面的损伤层；其中，所述毛刷包括第一毛刷和第二毛刷；所述第一毛刷位于毛刷的内部；...
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