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本实用新型公开了单晶硅片清洗装置，包括：一进料槽，一与进料槽顺次连接的第一药槽和第二药槽，以及一与第二药槽连接的自来水溢流槽，还包括一纯水供水系统，所述纯水供水系统包括一第一纯水槽，一第二纯水槽以及一第三纯水槽，所述第一纯水槽，第二纯水槽以...
该专利属于陕西天宏硅材料有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过陕西天宏硅材料有限责任公司授权不得商用。

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