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本发明提供一种描画装置及描画方法，能够简单地进行用于缓解边界部分的曝光不均匀的调整。在描画装置（1）中，接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数规定光学单元（40）所具有的多个调制单位（442）在排列...
该专利属于大日本网屏制造株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过大日本网屏制造株式会社授权不得商用。

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