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本发明公开了一种用于在Si片上沉积碳膜的设备，其特征在于：包括有放电管，在所述的放电管内设有基片安装座，在所述基片安装座内设有能加热基片的加热器，在所述的放电管上设有进气管，在所述放电管上设有用于与抽真空装置连接的连接管，在所述放电管外壁上...
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