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本发明公开了一种极紫外光刻机光源中液滴靶空间位置的监控系统，包括二个探测光源、二个四象限光电探测器、信号处理器、信号控制器和二维电位移台；二维电位移台用于放置喷嘴，设液滴喷嘴喷射方向为Z轴，第一探测光源和第一四象限光电探测器配合用于检测X方...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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