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一种光刻设备，具有多个独立可控辐射源单元，每个独立可控辐射源单元提供图案化的辐射束的一部分；控制系统，配置成监测每一个独立可控辐射源单元的性能参数；和更换机构，配置成在控制系统确定判断条件已经基于监测的性能参数被满足时以替代单元更换独立可控...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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