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一种沟槽式场效应管制造技术
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文档序号:9479227
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本实用新型公开了一种沟槽式场效应管,包括P型注入区以及覆盖其上表面的N型外延层,所述N型外延层设有多个P型阱和沟槽,每个P型阱的顶部设有N型有源区,所述P型阱及N型有源区均与沟槽相邻,所述沟槽包括多晶硅栅和栅氧化层,所述多晶硅栅与栅氧化层邻...
该专利属于广州成启半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广州成启半导体有限公司授权不得商用。
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