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本发明提供不产生针孔等的高品质的遮光层形成用感光性基材组合物。本发明的遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法的特征在于，将重均分子量为10000～50000的聚合物的表面活性剂成分(H)稀释至2.5～10质量％后进行过滤，使过滤后的该表面活...
该专利属于东京应化工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京应化工业株式会社授权不得商用。

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