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本实用新型涉及一种磁控溅射卷绕镀膜设备，尤其涉及一种用于制备双层ITO导电膜的卷绕镀膜机。它包括放卷室，工艺室，收卷室，放卷室内含有除水器，捕水器及导向辊轴；工艺室内含有镀膜鼓、预处理装置、第一溅射室、捕水汽装置、第二溅射室、第一捕水汽装置...
该专利属于南昌欧菲光科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南昌欧菲光科技有限公司授权不得商用。

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