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本发明描述了掺杂剂源气体供应布置和方法，其中一个或多个掺杂剂源气体供应容器被包含在离子注入系统的外封罩之内，例如在上述封罩内的一个气体箱之内。在一个实施方式中，掺杂剂源气体供应容器相对于离子注入系统的气体箱以远程关系定位，以及一个掺杂剂源气...
该专利属于先进技术材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过先进技术材料股份有限公司授权不得商用。

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