下载化学机械平坦化(CMP)抛光垫修整器及制造方法的技术资料

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一种形成化学机械平坦化(CMP)抛光垫修整器的方法,该方法包括将多个磨料颗粒放置在一个基底的主表面上、在这些磨料颗粒的外表面处形成一种粘合组合物、并且在该基底的表面和这些磨料颗粒的一部分上沉积一个粘合层,以便将这些磨料颗粒固定到该基底的主表...
该专利属于法国圣戈班磨料磨具公司;圣戈班磨料磨具有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过法国圣戈班磨料磨具公司;圣戈班磨料磨具有限公司授权不得商用。

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