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本实用新型涉及一种用于拉制区熔硅单晶时调节单晶热场的反射器，它包括：反射器筒体，该筒体包括：外筒体I(14)及内筒体II(10)，内筒体II(10)位于反射器筒体的上方，内筒体上顶部周边设有连接件与固定支架(11)固定，套在内筒体II外部的...该专利属于有研半导体材料股份有限公司;国泰半导体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过有研半导体材料股份有限公司;国泰半导体材料有限公司授权不得商用。