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一种场发射阴极的制备方法技术
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文档序号:8590503
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本发明提供一种ZrNxOy纳米线场发射阴极的制备方法,包括:Si衬底在丙酮和酒精中分别经超声清洗15min,然后用去离子水冲洗;采用高纯Ar作为溅射气体,高纯N2作为反应气体;真空室本底压强1.5×10-1Pa,溅射沉积过程的压强为1.5P...
该专利属于青岛润鑫伟业科贸有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过青岛润鑫伟业科贸有限公司授权不得商用。
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