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本实用新型公开了一种磁控溅射靶，包括背板及设置在背板的靶材，所述靶材下方设有突起部，用以防止突起部对应的靶材部分被击穿，在所述背板的朝向所述靶材的表面上设有凹槽，所述凹槽与所述靶材上设置的突起部相匹配。本实用新型通过改变背板的设计结构，采用...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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