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一种用于硅基片表面处理的喷丸材料和硅基片的制备方法。所述喷丸材料，包括碳化硅颗粒，所述碳化硅颗粒的中粒径为1μm～30μm。所述硅基片的制备方法，硅基片的至少一个表面经由所述喷丸材料以轰击的方式进行表面处理。因为用于轰击的碳化硅颗粒的粒径较...该专利属于圣戈班研发（上海）有限公司;圣戈班陶瓷材料（牡丹江）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过圣戈班研发（上海）有限公司;圣戈班陶瓷材料（牡丹江）有限公司授权不得商用。