下载采用金属硅化物的功率半导体器件结构及制备方法的技术资料

文档序号:8272468

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本发明涉及一种采用金属硅化物的功率半导体器件结构,包括第一导电类型漂移区,第一导电类型漂移区内设有第二导电类型基区,第二导电类型基区内设有第一导电类型发射区;所述第一导电类型漂移区正面设有栅氧化层,栅氧化层上设有多晶栅;在所述第二导电类型基...
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