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本发明涉及用于制造晶片和掩膜的电子束光刻的方法。为了减小干扰性的邻近效应的影响，使用扩展的修正算法用于控制电子束，该算法使更精确的修正成为可能。因此，本发明的任务在于，创造一种经改善的修正方法，用该方法能够最优地控制图案的所有图形的对比度和...
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