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本发明提供一种用于真空热处理设备的热处理容器。所述热处理容器包括：底部和侧壁。在所述侧壁的上部中限定排放通道。...
该专利属于LG伊诺特有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过LG伊诺特有限公司授权不得商用。

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