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用于大视场X射线相衬成像的X射线源制造技术
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文档序号:7953916
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本发明公开了一种用于大视场X射线相衬成像的X射线源,包括用于发射电子束的电子源和响应于电子束入射而发射X射线的阳极靶,所述阳极靶为一体结构的柱体,所述阳极靶顶端设有发射面,所述发射面由多个呈阶梯状排布且相互平行的倾斜发射面单元组成;相邻的所...
该专利属于深圳大学所有,仅供学习研究参考,未经过深圳大学授权不得商用。
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