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动态记忆体结构制造技术
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文档序号:7936043
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一种动态记忆体结构,包含位于基材上的条状半导体材料、跨越条状半导体材料的栅极,而将条状半导体材料分成源极端、漏极端及通道区,其中源极端的源极宽度大于或等于通道区的宽度、至少部分夹置于栅极与条状半导体材料间的介电层、以及位于基材上,包含作为下...
该专利属于钰创科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过钰创科技股份有限公司授权不得商用。
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