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CVD腔室的流体控制特征结构制造技术
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文档序号:7921557
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本发明提供用于气体散布组件的设备与方法。在一方面中,提供一种气体散布组件,其包含:环形本体,其包含:环形圈,其具有内环形壁、外壁、上表面与底表面;上凹部,其形成到该上表面内;及座部,其形成到该内环形壁内;上板,其设置在该上凹部中且包含:盘形...
该专利属于应用材料公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料公司授权不得商用。
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