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本发明公开一种提高图形线宽量测精度对准的方法，其中：S1：在掩模板上设置具有线条的图形结构；S2：对所述掩模板进行曝光晶圆，在交界处形成对准图形；S3：建立自动量测程序，对所述对准图形进行精度对准；S4：自动量测晶圆所需的结构图形。使用本发...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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