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本实用新型涉及用于印制电路板曝光的高分辨率投影光学系统，该系统包括曝光光源、光束整形模块、反光镜、图形发生器或掩模板、成像镜和载物台；所述成像镜由上透镜组模块、光阑和下透镜组模块组成；所述上透镜组模块从上至下依次设有上双面凸透镜、上弯月透镜...
该专利属于合肥芯硕半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥芯硕半导体有限公司授权不得商用。

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