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本发明提出的高压VDMOS器件结构在原有的VDMOS器件上增加栅极电阻,从而增强VDMOS器件的栅极抗电流冲击能力,大大增加对VDMOS器件栅极的保护,该器件结构简单,简化设计复杂度。同时本发明提出的高压VDMOS器件的制造方法可以在原有的...该专利属于杭州士兰微电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州士兰微电子股份有限公司授权不得商用。
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本发明提出的高压VDMOS器件结构在原有的VDMOS器件上增加栅极电阻,从而增强VDMOS器件的栅极抗电流冲击能力,大大增加对VDMOS器件栅极的保护,该器件结构简单,简化设计复杂度。同时本发明提出的高压VDMOS器件的制造方法可以在原有的...