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本发明涉及等离子体应用领域，具体地来说为一种等离子弧热处理强化工艺。采用等离子弧对工件表面热处理，喷嘴直径为2～3毫米，电流为20～30安培，扫描速度为25～30毫米/秒，等离子电弧长度4～5毫米，氩气流量0.2～0.5立方米/分钟，等离子...
该专利属于中国科学院金属研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院金属研究所授权不得商用。

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