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本发明公开一种连续真空镀膜装置，该装置由若干个镀膜腔体串接节联构成，每个镀膜腔体配置有离子束清洗源、和/或过滤阴极真空镀膜膜源、和/或磁控溅射源和分子真空泵，镀膜腔体之间用插板阀关闭密封或开启，节联的镀膜腔体，两头各有一个装载/卸载室和一个...
该专利属于纳峰真空镀膜（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过纳峰真空镀膜（上海）有限公司授权不得商用。

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