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一种CVD镀膜装置，其特征在于：镀膜腔室的至少一部分由有机薄膜构成，所述有机薄膜的厚度在100-200μm之间；在所述有机薄膜处设有两个以上X射线发射部件和一个X射线检测部件；能够通过检测X射线荧光，实时对气体的成分浓度做出分析，从而保证气...该专利属于宁波高新区智胜技术服务有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宁波高新区智胜技术服务有限公司授权不得商用。
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一种CVD镀膜装置，其特征在于：镀膜腔室的至少一部分由有机薄膜构成，所述有机薄膜的厚度在100-200μm之间；在所述有机薄膜处设有两个以上X射线发射部件和一个X射线检测部件；能够通过检测X射线荧光，实时对气体的成分浓度做出分析，从而保证气...