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本实用新型揭示了一种磁控溅射镀膜装置，包括一真空室，真空室的侧壁上设有至少一个磁控溅射阴极，真空室内设有圆形的基片转架，基片转架上竖直放置有至少一个的基片，基片的外侧的基片转架上套设有圆柱状的遮蔽罩；遮蔽罩上开设有与所述磁控溅射阴极对应的纵...
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