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溅射用镧靶制造技术
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文档序号:7170621
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本发明提供一种溅射用镧靶,其维氏硬度为60以上,并且表面无宏观形貌不均匀;还提供一种溅射用镧靶的制造方法,其特征在于,将镧熔炼、铸造而制造锭,然后在300~500℃的温度下对该锭进行揉锻,之后再在300~500℃下进行镦锻而将形状调节为靶原...
该专利属于吉坤日矿日石金属株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过吉坤日矿日石金属株式会社授权不得商用。
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