下载溅射用镧靶的技术资料

文档序号:7170621

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本发明提供一种溅射用镧靶,其维氏硬度为60以上,并且表面无宏观形貌不均匀;还提供一种溅射用镧靶的制造方法,其特征在于,将镧熔炼、铸造而制造锭,然后在300~500℃的温度下对该锭进行揉锻,之后再在300~500℃下进行镦锻而将形状调节为靶原...
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