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一种微光刻投射曝光设备（１０）的照明系统，包括光栅元件（７２），其被配置为产生位于系统光瞳面（７０）中的多个二次光源（９５）。所述光栅元件（７２）具有多个光入射面（９２），每个光入射面（９２）与所述二次光源（９５）之一关联。光束偏转装置包括...该专利属于卡尔蔡司ＳＭＴ有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司ＳＭＴ有限责任公司授权不得商用。
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一种微光刻投射曝光设备（１０）的照明系统，包括光栅元件（７２），其被配置为产生位于系统光瞳面（７０）中的多个二次光源（９５）。所述光栅元件（７２）具有多个光入射面（９２），每个光入射面（９２）与所述二次光源（９５）之一关联。光束偏转装置包括...