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用以制造磁性随机存取存储器的系统及方法技术方案
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文档序号:7137572
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本发明揭示一种用以制造磁性随机存取存储器的系统及方法。所述方法包括:在磁性隧道结(MTJ)结构上沉积顶盖层(112);在所述顶盖层上方沉积第一旋涂材料层(530);及蚀刻所述第一旋涂材料层及所述顶盖层的至少一部分。可将所述沉积和蚀刻旋涂材料...
该专利属于高通股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过高通股份有限公司授权不得商用。
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