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提供一种使用在以ＡｒＦ准分子激光为曝光光源的、基于变形照明的投影曝光中、能够确保作为辅助图案的焦点深度放大效果、同时在不使辅助图案发生析像的情况下形成主图案的高对比度的转印图像的具有辅助图案的半色调掩模及其制造方法。光掩模是在设有通过投影曝...
该专利属于大日本印刷株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过大日本印刷株式会社授权不得商用。

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