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本发明公开了一种用于磁瓦检测的可调均匀成像光源装置，包括顶部开设有孔的半球型外壳、与半球型外壳底部连接的底板以及设置在底板上、分布在半球型外壳底部内侧的弧形光源组，在所述半球型外壳顶部开设的孔口处设置有螺套，在所述螺套上、半球型外壳内设置有...
该专利属于成都四星液压制造有限公司;四川大学所有，仅供学习研究参考，未经过成都四星液压制造有限公司;四川大学授权不得商用。

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