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本发明公开了一种利用超临界水剥离SU-8光刻胶的装置及方法。该装置包括储水罐；一个高压泵，高压泵将去离子水注入压载箱，压载箱出口经溢流阀和喷嘴与反应釜连通，反应釜出口与溢流阀连接，从溢流阀出来的反应物流入尾气处理装置；反应釜底部有排液管，经...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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