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本发明涉及一种ICP分析装置及其分析方法，活用能进行高灵敏度测定但装置的劣化快的等离子体的发生轴方向测定和装置劣化少但灵敏度低的等离子体的横向测定中各测定的特征而能够进行高灵敏度且减轻了装置的劣化的倾斜方向测定。构成为：为了将所述等离子体喷...
该专利属于精工电子纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过精工电子纳米科技有限公司授权不得商用。

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