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本发明公开了一种多晶硅绒面的制备方法，其包括步骤：1、将多晶硅原料片使用有双沉积腔室的PECVD设备进行单面镀5nm-10nm厚的二氧化硅SiO2层和15-25nm厚的氮化硅层双层保护膜；2、用瑞纳制绒设备对镀双层膜的多晶硅片的一面酸洗单面...
该专利属于光为绿色新能源有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光为绿色新能源有限公司授权不得商用。

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