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本发明公开了一种硅量子点的表面修饰改性方法，该方法是将硅量子点溶解于有机溶剂中，加入过氧化物；然后在无水无氧的条件下进行加热反应，经纯化后得到产品。本发明方法工艺简单，反应条件易于控制，反应时间短，可实现大量、快速修饰改性硅量子点。...
该专利属于中国科学院理化技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院理化技术研究所授权不得商用。

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